マイクロ波材料学ワークステーション-マイクロ波エネルギー化学蒸着システム

主な用途：
主に半導体、広範囲の絶縁材料、ほとんどの金属材料と金属合金材料、グラフェン、ナノ材料、炭素繊維、炭化ケイ素、
めっき膜などの新材料の新技術分野

製品特徴：
★操作が便利：ガス路接続方式はKF快速接続フランジ構造を採用し、材料の出し入れ過程を簡略化し、1本のカフだけでガス路接続を完成することができ、
操作が容易で、複雑なフランジの取り付けプロセスをキャンセルし、取り付けによる損傷を軽減
★多機能：3種類の加熱方式は可変：純マイクロ波、伝統的な電気加熱、混合加熱、金属と合金を含む非可燃性の任意の試料の熱処理に適応する
★独自開発のマイクロ波場専用センサー、正確な温度制御
★セキュリティ：漏洩防止の4段インターロックを独自に採用した保護シールド措置安全で信頼性の高いマイクロ波シールドキャビティ設計、多重漏洩防止保護
*標準装備には専門のマイクロ波抑制器が搭載されている
*マイクロ波漏洩センサ内蔵
★省電力：使用寿命が長い：マグネトロンマイクロ波加熱は、従来の加熱ワイヤ、シリコン炭素棒、シリコンモリブデン棒などの加熱素子が損傷しやすい問題を回避し、解決した、
加熱素子による
損傷による時間、実験進度、修理費用などの各種損失
★無段可調、高安定度長寿命、れんぞくはマイクロ波源設備が連続的に安定して長時間運転できることを確保する
★組み込み型マイコン一体化温度制御システム、安定性制御の実現
★オーブン不要過程：炉室全体が自己発熱し、加熱が均一である
★マイクロ波エネルギーはすぐに開き、熱慣性がなく、温度を制御しやすい
★炉本体に自動冷却ファンを搭載
★保護管は耐高温合金管を採用し、気管はジャケット或いはVCRポートを採用し、取り付けが簡便である
★ユニバーサルホイールを搭載して足を調節し、移動と固定を容易にする

オプション機能：
1.多温域独立加熱モジュール：型番の後にDを追加する
◆複数の異なる温度帯を独立に加熱、独立に制御し、（2つの温度帯を標準配置）
◆2つ以上の温度帯は追加で選択可能
◆高温での気相又は揮発分の関与に一般的に用いられる材料合成
◆加熱ゾーン、恒温ゾーンの長さはすべて調整できます。
2.ユーザーのニーズに合わせて縦型またはその他の寸法をカスタマイズ可能

技術パラメータ：

モデル/モデル	WBQXCJ-4
かねつざいりょう	非可燃性で爆発性のある材料
マイクロ波周波数	2.45GHZ±50MHz
かねつほうしき	純マイクロ波加熱、従来の電気加熱、混合加熱
最大電力/KW（連続、調整可能）	4
サンプルキャビティ寸法/mm	標準装備Φ45 mm、長さ1200 mm。ユーザーのニーズに合わせてカスタマイズ可能
サンプルキャビティ（材質）	せきえいかん	コランダム管
温度制御範囲/℃	室温-1200℃	室温-1500℃
温度試験素子	マイクロ波場専用センサ
温度分解能/℃	0.1
温度制御精度/℃	1200℃以下±1、1200℃以上±2℃
温度偏差/℃
温度安定変動度/℃
れいきゃくほうしき	標準配風冷（オプション水冷）
恒温域長/mm	標準装備100はユーザーのニーズに合わせてカスタマイズ可能
昇温速度（標準）	0～200℃/min 任意設定、プログラム可能、セグメント加熱
温度制御方式	10段はプロセスパラメータ、7インチタッチスクリーン操作、データ記憶機能付き、手動、自動、恒温制御モードを提供し、曲線はリアルタイムに表示する
せいぎょガス	制御ガス：H 2、CH 4、Ar、N 2、その他のガスオプション
りゅうりょうせいぎょ	標準2セットの質量流量制御器：七星華創（真空保護バルブの後置、真空モードに適合）、精度：0.8%
さいだいたいあつ	1MPa；制御応答時間：10 ms
真空システム真空ポンプ	RVP2008；圧力範囲：10-3 Torr ~ 760 Torr 最大抽気速度：8.5 m 3/h
しんくうけい	デジタル真空計：1 atm-10-1 Pa
標準	品質流量自動制御システムは制御コンピュータ及び制御ソフトウェアを搭載し、リアルタイムで成長パラメータを表示及び保存することができる
ガス路のその他の配置	キャビネット、ガス路及びバルブ等
ポート	ステンレスKF 50フランジコネクタ
電源電圧（V）	220
マイクロ波漏洩量/mW/㎥2	≤0.4
外形寸法（縦´幅´高さ）/mm	1500×750×1550